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真空氣氛管式爐采用雙層風冷結構,爐體表面溫度≤60℃,爐膛采用高純度氧化鋁微晶纖維高溫真空吸附成型。。進口加熱電阻絲鑲嵌延長爐體使用壽命,是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業在可控多種氣氛及真空狀態下對金屬,非金屬及其它化合物進行燒結﹑熔化﹑分析而研制的理想設備。
查看詳情立式淬火爐 LFT1500C 50D30 OP如圖所示,爐襯使用真空成型高純氧化鋁聚輕材料,采用硅碳棒為加熱元件。該設備設計為立式結構,樣品由吊絲固定,真空腔室上端配有電磁鐵固定吊絲,可在真空條件下完成淬火工作。
查看詳情1700系列單溫區真空提拉爐設備為真空或者氣氛保護條件下的晶體生長設備,樣品處理位于剛玉管內,剛玉管兩端均有真空法蘭密封。上端通過壓縮波紋管和真空旋轉接頭與電機相連。可滿足樣品在真空或者氣氛條件下的旋轉和提拉。
查看詳情單溫區立式滑軌爐設計為立式結構,爐體可電動滑動。預升溫的管式爐可快速移動到樣品區,實現樣品快速升溫反應。也可程序控制升溫,實驗擴張性好。反應氣體自上而下,爐管下端通過磨砂口密封和下端出氣口相連,經過冷卻槽后將多余氣體排出。
查看詳情大口徑高溫高壓芯片退火管式爐設備用于較大尺寸(最大尺寸為8英寸)襯底退火處理,設備采用電阻絲為加熱元件,保溫材料為氧化鋁纖維爐膛真空吸附成型,電阻絲為內嵌式一體成型;該設備還集成了真空以及供氣系統。
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